In der heutigen Zeit gewinnt die Reinigung von elektronischen Komponenten und Systemen immer mehr an Bedeutung, da sie einen entscheidenden Einfluss auf deren Leistungsfähigkeit, Funktionalität, Zuverlässigkeit und Lebensdauer hat. Die steigenden Anforderungen an die technische Sauberkeit erfordern innovative Lösungen, die diesen Anforderungen trocken, prozesssicher und nachhaltig gerecht werden. Eine solche Lösung bietet die quattroClean-Schneestrahltechnologie von acp systems, die skalierbar, reinraumgerecht und inlinefähig ist und sich für eine Vielzahl von Reinigungsanwendungen eignet.
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Nachhaltige und trockene Reinigung mit flüssigem Kohlendioxid
Die quattroClean-Schneestrahltechnologie von acp systems ermöglicht eine effiziente und schonende Reinigung von elektronischen Komponenten und Systemen. Hierbei wird flüssiges Kohlendioxid als Reinigungsmedium eingesetzt, welches aus chemischen Produktionsprozessen und der Energiegewinnung aus Biomasse recycelt wird. Das Kohlendioxid wird durch eine spezielle Zweistoff-Ringdüse geleitet und dabei zu feinen Schneekristallen umgewandelt. Diese werden dann mittels eines Druckluftstrahls auf die zu reinigende Oberfläche gerichtet. Durch den thermischen, mechanischen und sublimativen Effekt des Kohlendioxids werden Partikel und Verschmutzungen effektiv entfernt, ohne dass aufwendige Spül- und Trocknungsprozesse erforderlich sind.
Die quattroClean-Schneestrahltechnologie, entwickelt von acp systems, nutzt einen Druckluftstrahl, um die feinen Schneekristalle auf die zu reinigende Oberfläche zu lenken. Durch die Kombination von thermischem, mechanischem, Lösemittel- und Sublimationseffekt werden sämtliche Kontaminationen effektiv entfernt. Das kristalline Kohlendioxid sublimiert dabei vollständig, was zu trockenen behandelten Flächen führt. Im Vergleich zu herkömmlichen Reinigungsverfahren entfallen bei dieser Technologie aufwendige Spül- und Trocknungsprozesse.
Die Reinigungsergebnisse der quattroClean-Schneestrahltechnologie wurden nach umfangreichen Untersuchungen bestätigt. In Bezug auf partikuläre Restkontaminationen erfüllt sie die Anforderungen der Oberflächenreinheitsklasse (ORK) 1 nach VDI 2083, Blatt 9.1:2006 reproduzierbar. Sogar bei bereits nasschemisch gereinigten Bauteilen kann die Technologie eine partikuläre Reinheit entsprechend ORK 0,1 wiederholgenau erreichen. Bei filmischen Rückständen erzielt sie vergleichbare Reinigungsergebnisse wie andere Feinstreinigungsverfahren wie nasschemische und Plasmareinigung sowie vakuum-Ausheizen.
Green Screen-Zertifikat bestätigt umweltfreundliche Reinigungstechnologie
Mit der quattroClean-Schneestrahltechnologie wird die Reinigung von elektronischen Komponenten und Systemen effizient und nachhaltig. Das flüssige Kohlendioxid, das als Reinigungsmedium verwendet wird, stammt aus recycelten Quellen wie chemischen Produktionsprozessen und der Energiegewinnung aus Biomasse. In Kombination mit dem Prozessgas von Linde erfüllt die Technologie die hohen Anforderungen des Green Screen-Zertifikats, das eine umweltfreundliche Reinigung ohne schädliche chemische Stoffe gewährleistet.
Flexible und anpassbare Reinigungslösungen für höchste Reinheitsqualität
Das Unternehmen acp systems bietet maßgeschneiderte Reinigungslösungen, die den spezifischen Anforderungen und Produktionsumgebungen gerecht werden. Die Lösungen basieren auf standardisierten Modulen, die flexibel kombiniert und individuell angepasst werden können. Die Anlagen werden komplett aus hochwertigem Edelstahl gefertigt und entsprechend den Reinraumklassen konfiguriert. Eine effiziente Medienaufbereitung gewährleistet eine hohe Reinheitsqualität des Prozessmediums und der Druckluft. Für anspruchsvolle Anwendungen in der Halbleiter-Produktion kann ein Gaswäscher integriert werden, um organische Stoffe effektiv zu entfernen.
Anpassung der Reinigungsparameter an die jeweilige Applikation im Reinraum-Technikum von acp systems
Bei acp systems stehen im hauseigenen Reinraum-Technikum umfangreiche Möglichkeiten zur Durchführung von Reinigungsversuchen zur Verfügung. Der validierte Reinraum der Klasse ISO 7 mit Zonen bis Klasse 5 ermöglicht eine präzise Anpassung der Prozessparameter an die jeweilige Applikation. Die gewonnenen Erkenntnisse können direkt in teilespezifische Reinigungsprogramme übertragen werden, um eine optimale Reinigungsqualität zu erzielen.
Die quattroClean-Schneestrahltechnologie von acp systems ist eine nachhaltige Lösung für die Reinigung von elektronischen Komponenten und Systemen. Durch den Einsatz von recyceltem flüssigem Kohlendioxid als Reinigungsmedium wird die Umweltbelastung minimiert. Die trockene Reinigung ermöglicht eine hohe Reinheitsqualität und spart Ressourcen, da aufwendige Spül- und Trocknungsprozesse entfallen. Die Technologie erfüllt die Anforderungen an die technische Sauberkeit und trägt zur Nachhaltigkeit der Elektronikindustrie bei.
